在 SAW 滤波器（声表面波滤波器）真空蒸发镀膜工艺中，蒸镀坩埚（PBN 有机 EL 坩埚和石墨坩埚）是蒸发源中的关键部件。主要用于承载各种蒸镀材料，并在高温真空环境下实现稳定蒸发，使蒸发分子均匀沉积到基板表面，形成 SAW 滤波器所需的功能薄膜。蒸镀坩埚的质量能够直接影响蒸发材料寿命、纯度、蒸镀过程稳定性以及最终薄膜质量，因此对坩埚材料性能和结构设计具有较高要求。

为什么蒸镀坩埚的选择如此重要？

SAW 滤波器蒸镀工艺通常在高温、高真空环境下进行。在此条件下，如果坩埚材料纯度不足或致密性不好，可能释放杂质或发生放气，污染蒸发材料，影响薄膜纯度；坩埚导热性能不均，则容易造成局部过热，影响蒸发稳定性、薄膜质量等。因此，高性能蒸镀坩埚需要具备高纯度、低放气率、优异的真空性能、良好的导热性能，以满足 SAW 滤波器蒸镀工艺对稳定性的要求。

两种复合结构坩埚，满足不同工艺需求

目前国晶主要有两种复合结构的坩埚，以满足不同工艺需求：PBN（热解氮化硼）基体 + PG（热解石墨）涂层结构和石墨基体 + PG（热解石墨）涂层结构。可满足不同蒸镀工艺对纯度、导热性能及综合性能的需求。

该坩埚基体选用高密度 PBN，强度高，不易开裂，大大延长使用寿命；以高纯 PBN 作为基体，在基体表面沉积一层 PG 涂层。PBN 基体及 PG 涂层均采用 CVD 工艺制备，纯度可达 99.999%，耐酸、碱、盐及有机试剂腐蚀，各向异性，高温下不释放气体，具有优异的真空性能、良好的气密性、良好的化学稳定性、优异的导热性能等。

该坩埚以高纯石墨作为基体，优选进口高纯石墨，涂层与其完美结合，使用寿命长。石墨基体具有良好的导热性能、机械强度，耐酸、碱、盐及有机试剂腐蚀，PG 涂层能够有效减少石墨在高温真空环境下可能产生的杂质释放，提高工作表面的稳定性。

如何选择适合的蒸镀坩埚？

不同蒸镀工艺，对蒸镀坩埚的性能要求并不相同。实际应用中，可根据设备结构、蒸发材料及工艺特点选择更加适合的复合结构方案。

随着蒸镀技术不断向高精度、高良率方向发展，蒸镀设备对关键材料提出了更高要求。作为蒸发源中的核心部件，蒸镀坩埚的材料性能和结构设计直接关系到蒸镀过程的稳定性和薄膜沉积质量。PBN 基体 + PG 涂层坩埚与石墨基体 + PG 涂层坩埚各具特点，可根据不同设备及工艺需求进行合理选择，为蒸镀工艺提供更加稳定、可靠的解决方案。