半导体晶体生长：作为GaAs、InP、GaP等III-V族化合物半导体单晶生长的LEC、VGF、VB、MBE法坩埚，因其高纯度和化学惰性，避免熔体污染。

OLED蒸发源：用于OLED生产的蒸发坩埚及支撑架，提供高绝缘性、高温稳定性且不释放气体。

高温防护涂层：为石墨加热器、石墨坩埚等提供PBN涂层，防止高温挥发和污染。

特种冶金与熔炼：作为高纯度金属蒸发镀膜、熔炼用的坩埚，耐受多种熔融金属且不反应 。

电子器件与窗口：用于行波管(TWT)支撑杆、MOCVD绝缘板、红外/微波透射窗口，利用其绝缘性、透波性和高温稳定性。

航空航天与真空设备：作为高温真空炉绝缘部件、高温绝缘流体喷嘴等，满足极端环境下的隔热、绝缘和结构稳定性要求。