稳定性好：采用高质量材料和精密控制电路，确保在长时间运行中蒸发速率和温度保持稳定，减少工艺波动。
均匀性好：点源设计允许精确控制蒸发角度和分布，从而实现薄膜厚度的高度均匀性，适合高要求的涂层应用。
材料利用率高：蒸发源优化了材料加热区域，减少浪费，通常材料利用率可达80%以上，降低生产成本。
兼容性强：支持多种材料蒸发，包括金属、合金和化合物，适应不同工艺需求。
| 性能 | 单位 | 数值 |
| 蒸发速率 | Å/s | 0.1–10（可调） |
| 功率范围 | W | 100–5000 |
| 温度控制精度 | °C | ±1 |
| 材料兼容性 | / | Al,Ag,Mg,Yb,Cu,In,Ga等 |
| 真空要求 | mbar | 基压≤1×10⁻⁶ |
| 寿命 | / | >1000小时（取决于材料和用法） |
点源蒸发源广泛应用于OLED蒸镀、CIGS薄膜蒸镀、钙钛矿蒸镀、以及科研领域的薄膜沉积实验。其高精度特性使其特别适合需要纳米级控制的应用。
山东省禹城市南环东路88号
