BN-氮化硼

本产品采用高纯度氮化硼制成,在高温、真空及惰性气氛下性能稳定,化学稳定性好,易于精密加工,可定制各种复杂结构。

特性

优异的耐高温性能(真空及惰性气氛下使用温度≥2000℃)

热导率高、热膨胀系数低

优异的抗热震性

高温下优异的电绝缘性

对熔融金属有良好的耐蚀性

易于机械加工,可定制不同形状和尺寸

参数

性能 单位 六方氮化硼 (h-BN) 立方氮化硼 (c-BN)
晶体结构 六方层状结构 立方结构 (闪锌矿型)
密度 g/cm³ 2.27 3.48
莫氏硬度 2 (润滑) 仅次于钻石
抗弯强度 (h-BN 陶瓷) MPa 50 – 100
熔点 / 分解点 在 N₂中 >3000℃ 分解 >3000℃
最高使用温度 (空气) 900 – 1000 (氧化限) ~1200
热导率 (20℃) W/(m·K) 15 – 30 (⊥c), 高达 60 (∥c) 13 – 20
热膨胀系数 K⁻¹ 0.4×10⁻⁶ – 7.5×10⁻⁶ (各向异性) 2.1×10⁻⁶ – 4.9×10⁻⁶
体积电阻率 (20℃) Ω·cm >10¹⁴ >10¹⁴
介电强度 kV/mm 30 – 40
介电常数 (1MHz) 3.5 – 5.3 (各向异性) 4.5 – 7.1

应用领域解决方案

半导体真空设备,可制作外延设备绝缘支撑件、隔热环、载盘及 PVD/CVD 绝缘屏蔽,也用于 GaAs、InP 单晶生长保温隔件与 OLED 蒸镀蒸发源绝缘隔热配件;同时适用于高温窑炉,可做 1600–1800℃真空气氛炉炉管、坩埚、舟皿;还可应用于电子散热和高压绝缘,用作 LED、充电桩等大功率器件导热绝缘垫片,高频 RF 设备高压绝缘、微波窗口结构件,以及锂电池烧结托盘、高温电解等新能源配件。

致力于成为
CVD及其相关技术的引领者
技术支持:海诚互联