硅外延衬底：提供低缺陷、高导热支撑平台，保障外延层均匀生长并有效散热。

单晶硅制造设备部件：用于坩埚内衬、导流与保温结构，耐高温耐腐蚀，防止硅液污染。

MOCVD 衬底：用于 GaN 等外延生长基底，影响外延层质量与性能。

加热器部件：用于高温加热系统，提供均匀稳定热源。

散热片：用于快速导热散热，控制设备温度稳定。

抗氧化组件：用于高温氧化环境防护，减少部件氧化损耗。