加热盘

氮化铝(AlN)陶瓷加热器是一种用于半导体材料加热的装置,具有优异的导热性和耐高温性能,可以在高温下稳定运行。氮化铝陶瓷加热器在半导体生产过程中具有重要作用,可用于晶体生长、退火、烘烤等工艺中。

特性

热导率高、温度均匀性好、等离子环境耐用性好、热膨胀系数接近与硅

参数

性能 单位 数值
热导率 W/m·K 170-230
最高工作温度 1600
温度均匀性 ±1
热膨胀系数 ×10⁻⁶/℃ 4.0-4.7

应用领域解决方案

应用于CVD设备、PECVD设备、ALD设备、光刻设备、离子注入机

产品展示

暂无产品

致力于成为
CVD及其相关技术的引领者
技术支持:海诚互联