TaC-CVD碳化钽

CVD(化学气相沉积)碳化钽涂层是一种高性能陶瓷涂层,以卓越的硬度、耐磨性与耐腐蚀性著称。其硬度接近金刚石,可有效抵御磨损、刮擦与化学侵蚀,是极端环境应用的理想之选。

特性

涂层厚度均匀。
纯度 99.999%,涂层表面致密,耐高温。
耐酸碱腐蚀,对氢 (H₂)、氨 (NH₃)、硅烷 (SiH₄) 及硅 (Si) 均有耐受性,能在恶劣的化学环境中提供可靠保护。
耐受等离子体蚀刻化学品(例如,氯、溴),掺杂剂(例如,硼、磷、砷)和腐蚀性清洁剂。
抗热震性好,涂层结合力强。

参数

性能 单位 数值
密度 g/cm³ 14.3
熔点 3880
晶格常数 nm 0.4454
硬度 HK 2000
热导率 (25℃) W/(m·K) 22–25
热导率 (100℃) W/(m·K) 15–18
热膨胀系数 K⁻¹ 6.29×10⁻⁶
弹性模量 GPa 291
电阻率 Ω·cm 1×10⁻⁵

应用领域解决方案

PVT 法碳化硅单晶生长关键组件、GaN 晶圆托、导流圆环、MOCVD 外延盘碳化钽(TaC)加热器。

致力于成为
CVD及其相关技术的引领者
技术支持:海诚互联