半导体晶体生长：作为 GaAs、InP、GaP 等 III-V 族化合物半导体单晶生长的 LEC、VGF、VB、MBE 法坩埚，因其高纯度和化学惰性，避免熔体污染。

OLED 蒸发源：用于 OLED 生产的蒸发坩埚及支撑架，提供高绝缘性、高温稳定性且不释放气体。

高温防护涂层：为石墨加热器、石墨坩埚等提供 PBN 涂层，防止高温挥发和污染。

特种冶金与熔炼：作为高纯度金属蒸发镀膜、熔炼用的坩埚，耐受多种熔融金属且不反应。

电子器件与窗口：用于行波管 (TWT) 支撑杆、MOCVD 绝缘板、红外 / 微波透射窗口，利用其绝缘性、透波性和高温稳定性。

航空航天与真空设备：作为高温真空炉绝缘部件、高温绝缘流体喷嘴等，满足极端环境下的隔热、绝缘和结构稳定性要求。