应用：

半导体晶体生长领域：用于 LEC（液封直拉法）工艺中 GaAs、InP 等化合物半导体单晶的生长过程，作为盛装熔体的容器。

高纯环境应用：由于其高纯度和不与熔体反应的特性，能有效防止杂质污染，保证晶体纯度。

高温反应容器：适用于高温下的化学反应、金属或化合物熔融实验，具有极强的耐腐蚀性和抗热震性。

真空与惰性气氛环境：在真空或氮气、氩气等气氛中长时间稳定使用，不会分解或挥发。

晶体制备设备：常配合钨、钼、石墨等加热系统使用，用于 LEC 晶体生长炉、MOCVD 设备或其他高温熔炼系统。