应用：

半导体制造：在 MBE、MOCVD 等制程中，精准加热半导体衬底，保障温度均匀，助力薄膜生长、材料掺杂，提升器件性能与良率。

超导体与先进材料制备：为超导体衬底高温预处理、新型功能薄膜沉积提供高纯度加热，避免杂质污染影响材料性能。

精密分析与科研实验：在电子显微镜原位加热测试、高温材料性能表征中，作为微型高精度加热源，满足实验对温度精度与环境纯度的严苛要求。

高纯金属与有机材料处理：用于 OLED 有机材料真空蒸发前加热预处理、高纯金属低温退火，依托 PBN 化学惰性防止材料污染，保障产品纯度。

特种电子器件生产：在高频微波器件、红外探测器件芯片封装前加热固化环节，提供低干扰、高精度局部加热，避免高温损伤器件敏感结构，确保电气性能稳定。